特許
J-GLOBAL ID:200903006959646663
有機ヒ素化合物汚染土壌の洗浄剤および浄化方法
発明者:
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出願人/特許権者:
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代理人 (1件):
石井 博樹
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2005-157414
公開番号(公開出願番号):特開2006-326551
出願日: 2005年05月30日
公開日(公表日): 2006年12月07日
要約:
【課題】 例えばリン酸水溶液による洗浄では高い有機ヒ素化合物除去効果が得られない汚染土壌についても、有機ヒ素化合物除去率を飛躍的に向上させることができる新たな有機ヒ素化合物汚染土壌の洗浄剤および浄化方法を提供すること。【解決手段】 本発明は、水溶性有機溶媒と酸を主成分とする水溶液により構成される有機ヒ素化合物汚染土壌の洗浄剤である。ここで、水溶性有機溶媒としてはメタノール、エタノール等のアルコール類の他、酢酸、アセトン、アセトニトリル等が挙げられる。酸としてはリン酸および、その他の鉱酸、例えば、塩酸、硫酸等が挙げられる。【選択図】図2
請求項(抜粋):
水溶性有機溶媒と酸を主成分とする溶液により構成される有機ヒ素化合物汚染土壌の洗浄剤。
IPC (6件):
B09C 1/02
, B09C 1/08
, B01D 11/02
, B01D 15/00
, C09K 3/00
, C11D 7/08
FI (5件):
B09B3/00 304K
, B01D11/02 A
, B01D15/00 K
, C09K3/00 S
, C11D7/08
Fターム (26件):
4D004AA41
, 4D004AB03
, 4D004AB05
, 4D004CA40
, 4D004CB50
, 4D004CC04
, 4D004CC12
, 4D017AA06
, 4D017BA04
, 4D017CA03
, 4D017CB01
, 4D017DA07
, 4D056AB17
, 4D056AC06
, 4D056AC22
, 4D056BA08
, 4D056CA14
, 4D056CA17
, 4D056CA20
, 4D056CA31
, 4H003DA20
, 4H003DB01
, 4H003DC02
, 4H003EA03
, 4H003EA04
, 4H003ED28
引用特許:
出願人引用 (3件)
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特公昭60-42171号公報
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汚染土壌の修復方法
公報種別:公開公報
出願番号:特願平9-322530
出願人:工業技術院長
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特許第3407039号公報
審査官引用 (4件)