特許

J-GLOBAL ID：200903006961697470

密封容器の製造方法、容器密封システム及び蓋溶接機

発明者： 中谷 正樹
出願人/特許権者： キリンホールディングス株式会社
代理人 (2件)： 今下 勝博 ,  岡田 賢治
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2006-092201
公開番号（公開出願番号）：特開2007-261665
出願日： 2006年03月29日
公開日（公表日）： 2007年10月11日
要約：

【課題】本発明の目的は、密封容器の製造方法において、溶着予定箇所を溶着するために供給すべきレーザー照射エネルギーを低減し、必要最小限とすることと、周囲の温度が変化しても溶着予定箇所を安定して溶着することによって、内容物の漏れ、開蓋、一部白濁等の密封容器の品質低下を抑えることである。さらに、内容物の劣化や変質等の品質低下を抑えつつ、容器の密封を図ることである。【解決手段】本発明の密封容器の製造方法は、レーザー溶接法によって、内容物を充填した容器胴体と該容器胴体の口部に装着された蓋とを溶着して気密状態とした密封容器の製造方法において、前記容器胴体の口部に予熱された前記蓋を載せた状態で、前記容器胴体をレーザー照射領域に入れる配置工程と、前記蓋と前記容器胴体との溶着予定箇所に対してレーザー光を照射して、前記蓋と前記容器胴体とを溶着し、容器の密封を行なう溶着工程を有することを特徴とする。【選択図】図2

請求項（抜粋）：

レーザー溶接法によって、内容物を充填した容器胴体と該容器胴体の口部に装着された蓋とを溶着して気密状態とした密封容器の製造方法において、 前記容器胴体の口部に予熱された前記蓋を載せた状態で、前記容器胴体をレーザー照射領域に入れる配置工程と、 前記蓋と前記容器胴体との溶着予定箇所に対してレーザー光を照射して、前記蓋と前記容器胴体とを溶着し、容器の密封を行なう溶着工程を有することを特徴とする密封容器の製造方法。

IPC (2件)：

B65B 7/28 ,  B67B 5/00

FI (2件)：

B65B7/28 A ,  B67B5/00

Fターム (12件)：

3E049AA01 ,  3E049AB02 ,  3E049BA01 ,  3E049CA04 ,  3E049DB01 ,  3E049EA02 ,  3E049EB04 ,  3E049FA01 ,  3E080AA06 ,  3E080AA20 ,  3E080CE20 ,  3E080DD21

引用特許：

出願人引用 (2件)

• 薄板の縁を溶接するための方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平8-047360   出願人：エルパトローニクアクチエンゲゼルシヤフト
• 特開昭59-35890号公報
  

審査官引用 (4件)

• 特開昭57-037505
  
• 特開平1-254506
  
• 薄板の縁を溶接するための方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平8-047360   出願人：エルパトローニクアクチエンゲゼルシヤフト
• 特開昭59-035890