特許

J-GLOBAL ID：200903006963299021

圧縮ガス中の汚染粒子の分析方法

発明者： ファ - チ・ワン ,  リチャード・ジェイ・ユディシャス
出願人/特許権者： レール・リキード・ソシエテ・アノニム・プール・レテュード・エ・レクスプロワタシオン・デ・プロセデ・ジョルジュ・クロード
代理人 (1件)： 鈴江 武彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-111953
公開番号（公開出願番号）：特開平8-101116
出願日： 1995年05月10日
公開日（公表日）： 1996年04月16日
要約：

【要約】【目的】 広範囲のシリンダ-ガス中の粒子を分析するシステム及び方法を提供すること。【構成】 圧縮ガス中の粒子を分析するシステム及び方法、モニタ-されたガス中の粒子の成長を制御する方法、及び個々のガスのための最適なモニタ-温度を決定する方法が開示されている。

請求項（抜粋）：

ガス中の不純物を分析するセンサ-、このセンサ-に入るガスに先立ってこのガスの温度を制御する温度コントロ-ラ-、圧縮ガス源と前記センサ-との間に位置する第1のバルブを含む圧力バランサ-、前記ガスをシステムに導入する第2のバルブ、この第2のバルブの下流に位置し、原料ガス中の及び/又は上流成分により導入された不純物を実質的に除去するためのフィルタ-、このフィルタ-の下流に位置し、システムからのガスの排出を制御する第3のバルブ、及び前記フィルタ-と前記センサ-との間に位置し、前記第1のバルブの前後の圧力平衡があるまで前記ガスを前記センサ-まで戻すためのオリフィスを具備する、圧縮ガス中の不純物を分析するシステム。

IPC (2件)：

G01N 15/06 ,  G01N 7/00