特許
J-GLOBAL ID：200903006974133435
高純度シリカ水性ゾル及びその製造方法
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
曾我 道照 (外6名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-356433
公開番号（公開出願番号）：特開2000-178020
出願日： 1998年12月15日
公開日（公表日）： 2000年06月27日
要約：
【要約】【課題】 アルコールのような溶剤を使用せずにアルキルシリケートよりシリカゾルを製造する。【解決手段】 シリカ濃度1〜8モル/リットルで、0.0018〜0.18モル/リットルの酸濃度と2〜30モル/リットルの範囲の水濃度で、溶剤を使用しないでアルキルシリケートを酸触媒で加水分解した後、シリカ濃度が0.2〜1.5モル/リットルの範囲となるように水希釈し、pHが7以上となるようにアルカリ触媒を加え加熱させて粒子成長させることを特徴とする。
請求項（抜粋）：
アルキルシリケートより得られるシリカゾルであって、該シリカゾル粒子のシアーズ法による粒子径の測定値(X1)と窒素吸着BET法による粒子径(X2)との比Y(X1/X2)が0.5〜1.5であり、かつその粒子径が3〜300nmの範囲であることを特徴とする高純度シリカ水性ゾル。
IPC (2件)：
FI (2件)：
Fターム (20件)：
4G072AA28
, 4G072BB05
, 4G072CC01
, 4G072DD05
, 4G072DD06
, 4G072DD07
, 4G072EE01
, 4G072GG01
, 4G072HH30
, 4G072KK01
, 4G072KK03
, 4G072LL06
, 4G072MM01
, 4G072PP01
, 4G072PP02
, 4G072RR05
, 4G072TT01
, 4G072UU07
, 4G072UU09
, 4G072UU30
