特許
J-GLOBAL ID:200903006981656745
シロキサン化合物含有ガス精製方法および装置
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (1件):
鈴江 武彦 (外4名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2000-252541
公開番号(公開出願番号):特開2002-060767
出願日: 2000年08月23日
公開日(公表日): 2002年02月26日
要約:
【要約】【課題】 シロキサン化合物含有ガス中のシロキサン化合物を安価に効率よく除去して精製ガスを得ることが可能な、シロキサン化合物含有ガスの精製方法を提供する。【解決手段】 シロキサン化合物含有ガスを、多孔質吸着剤が充填された充填層に通過させて、前記多孔質吸着剤に前記シロキサン化合物含有ガス中のシロキサン化合物を吸着させることにより、前記ガス中に含まれるシロキサン化合物を除去して精製ガスを得ることを特徴とする。前記シロキサン化合物含有ガスは、0.5m/s以下の空塔速度で、前記充填層を通過させることが好ましい。また、前記充填層に充填される多孔質吸着剤は、500m2/g以上の比表面積を有することが好ましく、10Å〜20Åの範囲の細孔の積算容量が0.1cm3/g以上であることが好ましい。
請求項(抜粋):
シロキサン化合物含有ガスを、多孔質吸着剤が充填された充填層に通過させて、前記多孔質吸着剤に前記シロキサン化合物含有ガス中のシロキサン化合物を吸着させることにより、前記ガス中に含まれるシロキサン化合物を除去して精製ガスを得ることを特徴とするシロキサン化合物含有ガスの精製方法。
IPC (6件):
C10L 3/10
, B01D 53/02
, B01D 53/04
, B01D 53/34 ZAB
, B01D 53/64
, B01J 20/28
FI (6件):
B01D 53/02 Z
, B01D 53/04 Z
, B01J 20/28 Z
, C10L 3/00 B
, B01D 53/34 ZAB
, B01D 53/34 136 Z
Fターム (29件):
4D002AA26
, 4D002AC10
, 4D002BA04
, 4D002CA07
, 4D002CA08
, 4D002CA09
, 4D002DA41
, 4D002DA45
, 4D002DA46
, 4D002GA01
, 4D002GB12
, 4D002GB20
, 4D012BA01
, 4D012CA07
, 4D012CA10
, 4D012CA12
, 4D012CC07
, 4D012CC14
, 4D012CE03
, 4D012CF10
, 4D012CG05
, 4G066AA05B
, 4G066BA23
, 4G066BA24
, 4G066BA25
, 4G066BA26
, 4G066CA45
, 4G066DA02
, 4G066DA04
引用特許:
審査官引用 (1件)
-
溶剤回収装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平4-062479
出願人:凸版印刷株式会社
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