特許

J-GLOBAL ID：200903007011887430

表面プロフィール測定方法及び装置

発明者： 奥野 眞 ,  後藤 義人 ,  鈴木 真
出願人/特許権者： 川崎製鉄株式会社
代理人 (1件)： 高矢 諭 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-021250
公開番号（公開出願番号）：特開平10-221055
出願日： 1997年02月04日
公開日（公表日）： 1998年08月21日
要約：

【要約】【課題】 表面プロフィールを正確に測定する。【解決手段】 配置間隔が大の3個の距離計の測定値から表面プロフィールの低周波数成分を求めると共に、配置間隔が小の3個の距離計の測定値から表面プロフィールの高周波数成分を求め、両者を加算して表面プロフィールを算出することにより、全ての周波数成分に関して精度のよい表面プロフィールを測定することを可能とする。

請求項（抜粋）：

距離計取付台又は被測定物のいずれか一方を、該距離計取付台と被測定物の表面とがほぼ平行になるように移動させ、該距離計取付台に設置した複数の距離計により被測定物の表面までの距離を測定し、得られた測定値を演算して被測定物の表面プロフィールを求める表面プロフィール測定方法において、前記距離計取付台上に、狭い間隔でほぼ等間隔に配置された3個1組の距離計を少なくとも1組配置すると共に、前記3個1組の距離計のうち、どれか1つに対して少なくとも1つの距離計を広い間隔でほぼ等間隔に、前記距離計取付台上に配置し、且つ、前記距離計取付台上に配置された距離計数の合計は5個以上であり、前記3個1組の距離計の測定値から被測定物の表面プロフィールの高周波数成分を算出し、前記広い間隔で配置された距離計の測定値から被測定物の表面プロフィールの低周波数成分を算出し、これら2つの周波数成分を合成することにより被測定物の表面プロフィールを求めることを特徴とする表面プロフィール測定方法。

IPC (2件)：

G01B 21/20 ,  G01B 21/30 101

FI (2件)：

G01B 21/20 G ,  G01B 21/30 101 F