特許
J-GLOBAL ID:200903007014461744
フッ素含有水素吸蔵材
発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
石田 敬 (外3名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2000-319480
公開番号(公開出願番号):特開2002-126506
出願日: 2000年10月19日
公開日(公表日): 2002年05月08日
要約:
【要約】【課題】 単位空間あたりの水素吸蔵量が多く、軽量で、かつ水素を比較的容易に放出させることができる水素吸蔵材、及びこうした水素吸蔵材を比較的容易に製造することができる方法を提供する。【解決手段】 フッ素原子の間に水素が吸蔵される空隙が形成されてなることを特徴とする水素吸蔵材である。好ましくは、その空隙が、無機層状物質の正電荷層に固定されたフッ素原子によって形成され、又は金属錯体を構成するフッ素含有配位子によって形成され、又は活性炭に固定されたフッ素原子によって形成される。こうした水素吸蔵材は、正の層電荷を有する無機層状物質の層間の負イオンをフッ素イオンに置換する、フッ素含有有機物を配位子とする金属錯体を析出させる、又はフッ素含有有機物を活性炭の細孔内部に導入して炭化させることによって製造することができる。
請求項(抜粋):
基材に導入されたフッ素原子の間に水素が吸蔵される空隙が形成されてなることを特徴とする水素吸蔵材。
IPC (8件):
B01J 20/02
, B01J 20/04
, B01J 20/20
, B01J 20/22
, B01J 20/30
, C01B 3/00
, F17C 11/00
, H01M 8/04
FI (8件):
B01J 20/02 A
, B01J 20/04 C
, B01J 20/20 D
, B01J 20/22 A
, B01J 20/30
, C01B 3/00 B
, F17C 11/00 C
, H01M 8/04 J
Fターム (17件):
3E072EA10
, 4G040AA42
, 4G066AA05B
, 4G066AA05C
, 4G066AA08B
, 4G066AA66B
, 4G066AA66C
, 4G066AB24B
, 4G066AB24C
, 4G066BA23
, 4G066CA38
, 4G066DA04
, 4G066FA11
, 4G140AA42
, 4G140AA48
, 5H027AA02
, 5H027BA13
引用特許:
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