特許

J-GLOBAL ID：200903007022862367

現像方法

発明者： 岩崎 裕一
出願人/特許権者： キヤノン株式会社
代理人 (1件)： 藤元 亮輔
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-010479
公開番号（公開出願番号）：特開2004-228107
出願日： 2003年01月20日
公開日（公表日）： 2004年08月12日
要約：

【課題】厚みのあるレジスト層を現像する場合に、溶解したレジストが滞留しないように現像液の置換機能を持ち現像処理を促進させ、且つ、現像処理の均一性が高い、高精度な3次元形状のレジストパターン形成ができる現像方法を提供する。【解決手段】面上に感光層が設けられた基板と前記感光層上に現像液を吐出する現像液供給手段とを同時に回転、移動して行う現像方法において、前記現像液供給手段の移動は前記現像液を吐出させながら行い、且つ、前記基板の回転は高回転から順次低回転にして行うことを特徴とする現像方法を提供する。【選択図】 図1

請求項（抜粋）：

面上に感光層が設けられた基板と前記感光層上に現像液を吐出する現像液供給手段とを同時に回転、移動して行う現像方法において、 前記現像液供給手段の移動は前記現像液を吐出させながら行い、且つ、前記基板の回転は高回転から順次低回転にして行うことを特徴とする現像方法。

IPC (3件)：

H01L21/027 ,  B05D1/40 ,  G03F7/30

FI (3件)：

H01L21/30 569C ,  B05D1/40 A ,  G03F7/30 502

Fターム (20件)：

2H096AA27 ,  2H096AA28 ,  2H096GA29 ,  2H096GA30 ,  4D075AC06 ,  4D075AC64 ,  4D075AC84 ,  4D075AC88 ,  4D075AC94 ,  4D075CA47 ,  4D075DA06 ,  4D075DB13 ,  4D075DB14 ,  4D075DC24 ,  4D075EA06 ,  4D075EA45 ,  4D075EA60 ,  5F046LA03 ,  5F046LA04 ,  5F046LA08