特許
J-GLOBAL ID：200903007030198115
処理装置
発明者：
出願人/特許権者：
,
代理人 (1件)：
浅井 章弘
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-309811
公開番号（公開出願番号）：特開平5-121306
出願日： 1991年10月29日
公開日（公表日）： 1993年05月18日
要約：
【要約】【目的】 処理液の蒸気の存在及びその濃度を確実に検出する。【構成】 HMDS等の処理液2を窒素などのキャリアガスにより気化し、これを処理容器14内へ導入して被処理体16を処理する装置において、上記処理容器14からの排気系18にキャリアガス中に含まれる処理液の蒸気濃度を検出する処理液濃度検出手段24を設ける。この検出手段24には、合成2分子膜センサ42が含まれており、蒸気濃度を確実に検出する。
請求項（抜粋）：
処理液をキャリアガスにより気化し、該気化された処理液を含有するキャリアガスを処理容器内へ導入して被処理体を処理する処理装置において、前記キャリアガスの流路に、前記キャリアガス中に含有する処理液の濃度を測定する処理液濃度検出手段を設けるように構成したことを特徴とする処理装置。
IPC (4件)：
H01L 21/027
, B05C 9/10
, B05C 11/08
, G03F 7/11
