特許
J-GLOBAL ID：200903007030233468
光導波路及びその製造方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
絹谷 信雄
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-045403
公開番号（公開出願番号）：特開平6-258538
出願日： 1993年03月05日
公開日（公表日）： 1994年09月16日
要約：
【要約】【目的】 高寸法精度、低損失の光導波路及びその製造方法を提供する。【構成】 基板と、該基板上に形成されたクラッド層と、クラッド層の中に断面が略矩形状に形成されたコアとを有する光導波路において、クラッド11及びコア12がSiOxNyHzからなり、クラッド11の窒素含有量を0.2アトミック%から2アトミック%までに設定すると共に、コア12の窒素含有量を3アトミック%から25アトミック%までに設定したことを特徴としている。
請求項（抜粋）：
基板と、該基板上に形成されたクラッドと、該クラッドの中に断面が略矩形状に形成されたコアとを有する光導波路において、上記クラッド及びコアがSiOxNyHzからなり、上記クラッドの窒素含有量を0.2アトミック%から2アトミック%までに設定すると共に、上記コアの窒素含有量を3アトミック%から25アトミック%までに設定したことを特徴とする光導波路。
引用特許：
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