特許
J-GLOBAL ID：200903007034252491

半導体露光装置、およびそれに用いるロードロックチャンバー

発明者：
米川 雅見

米川 雅見 について


出願人/特許権者：
キヤノン株式会社

キヤノン株式会社 について


代理人 (1件)： 高梨 幸雄
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-032278
公開番号（公開出願番号）：特開2003-234282
出願日： 2002年02月08日
公開日（公表日）： 2003年08月22日
要約：
【要約】【課題】 露光装置に用いられるロードロックチャンバーでは、真空排気時にガスの断熱膨張により、ガス温度の急激な低下が生じる。この事により、ウエハー温度低下と、水蒸気の凝結によるパーティクル発生という二つの問題が生じる。本発明では、両者を同時に解決する事を目的としている。【解決手段】 ロードロック内のガス温度を計測することが可能な温度計測手段と、ガス温度の変動許容値を演算する事が可能な演算手段と、その変動許容値範囲内にガス温度を制御することが可能なガス温度制御手段と、を備える。さらに、ガス温度の許容値は、真空排気前のガスの湿度と温度の計測結果から定まる露点、もしくはアライメント精度から定めることが可能なウエハー温度低下許容量内にあり得るガス温度、のいずれか高いほうの温度である。
請求項（抜粋）：
ロードロック機構を有し、真空環境下で基板上に露光を行う半導体露光装置において、ロードロック内のガス温度を計測することが可能な温度計測手段と、ガス温度の変動許容値を演算する事が可能な演算手段と、その変動許容値範囲内にガス温度を制御することが可能なガス温度制御手段と、を備えたことを特徴とする投影露光装置。
IPC (4件)：
H01L 21/027 ,  B65G 49/00 ,  G03F 7/20 521 ,  H01L 21/68
FI (7件)：
B65G 49/00 A ,  G03F 7/20 521 ,  H01L 21/68 A ,  H01L 21/30 516 E ,  H01L 21/30 515 Z ,  H01L 21/30 531 A ,  H01L 21/30 541 L
Fターム (25件)：
5F031CA02 ,  5F031DA01 ,  5F031FA01 ,  5F031FA07 ,  5F031FA11 ,  5F031FA12 ,  5F031JA01 ,  5F031JA21 ,  5F031JA46 ,  5F031MA27 ,  5F031NA05 ,  5F031NA09 ,  5F031PA30 ,  5F046BA05 ,  5F046CC01 ,  5F046DA26 ,  5F046DB02 ,  5F046DC10 ,  5F046GA03 ,  5F046GA08 ,  5F046GA14 ,  5F056BA10 ,  5F056BB10 ,  5F056EA12 ,  5F056EA16
引用特許：
審査官引用 (5件)
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