特許
J-GLOBAL ID：200903007065880431
パターン検査装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
鈴江 武彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-078570
公開番号（公開出願番号）：特開平7-286965
出願日： 1994年04月18日
公開日（公表日）： 1995年10月31日
要約：
【要約】【目的】本発明は、パターン形状の検査を効率よくかつ高速、高精度に行う。【構成】検査試料(13)に照射する電子ビームの設定ビーム照射位置に対する実際のビーム照射位置の回転ずれ量θを検出し、この回転ずれ量θ及び矩形等の電子ビーム照射形状に基づいてパターン検査・判定装置(34)においてパターンぬけ欠陥面積Mkwと設定許容欠陥面積Msとの関係を比較してパターン形状の判定を行う。
請求項（抜粋）：
電子ビームを検査試料に照射したときに発生する荷電粒子を検出して前記検査試料におけるパターン形状を検査するパターン検査装置において、前記検査試料のデータにより求められる設定ビーム照射位置に対し、前記電子ビームを前記検査試料に照射したときの実際のビーム照射位置の回転ずれ量を検出する回転ずれ検出手段と、少なくともこの検出された回転ずれ量及び前記電子ビーム照射形状に基づいて前記設定ビーム照射位置に対する前記実際のビーム照射位置のずれ面積を求め、このずれ面積と設定許容欠陥面積とを比較してパターン形状の判定を行う判定手段と、を具備したことを特徴とするパターン検査装置。
IPC (4件)：
G01N 21/88
, G03F 1/08
, H01L 21/027
, H01L 21/66
