パターン欠陥検査装置

発明者： , ,
出願人/特許権者： ,
代理人 (1件)：鈴江武彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-063744
公開番号（公開出願番号）：特開平7-270327
出願日： 1994年03月31日
公開日（公表日）： 1995年10月20日
要約：

【要約】【目的】従来装置で検出される最小欠陥寸法よりさらに小さな欠陥の検出を可能とし、特にパターンのエッジ近傍の欠陥を感度良く検出できるパターン欠陥検査装置を提供すること。【構成】パターンが形成されたマスク2に照明レンズ4によって光を照射し、マスク2を通過して得られるパターン像を対物レンズ5によって受光素子6上に結像し、受光素子6により受光されたパターン像に対応する測定データと該パターンの設計データとを比較することにより、マスク2上のパターンの欠陥を検査するパターン欠陥検査装置において、照明レンズ4と対物レンズ5の開口数σの比を被測定パターンの種類に応じて変更するアパーチャ31と、開口数の比を変化させても受光素子6に受光される光量が略一定となるようにアパーチャ31における光の透過率を調整するフィルタとを付加したことを特徴とする。

請求項（抜粋）：

パターンが形成された試料に所定波長の光を照明レンズによって照射し、試料を通過して得られるパターン像を対物レンズによって受光素子上に結像し、受光素子により受光されたパターン像に対応する測定データとパターンを形成するために用いられたパターンの設計データとを比較することにより、試料面上のパターンの欠陥を検査するパターン欠陥検査装置において、前記照明レンズと対物レンズの開口数の比を被測定パターンの種類に応じて照明レンズ側で変更する手段と、開口数の比を変化させても前記受光素子に受光される光量が略一定となるように制御する手段とが付加されていることを特徴とするパターン欠陥検査装置。

IPC (4件)：

G01N 21/88 , G06T 7/00 , G06T 1/00 , H01L 21/66

FI (2件)：

G06F 15/62 405 A , G06F 15/64 D

引用特許：

審査官引用 (3件)

マスク検査装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平4-115100 出願人：株式会社東芝
特開平4-100045
特開昭63-070431

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