特許
J-GLOBAL ID:200903007092888045

薄膜磁気ヘッドの製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 守田 賢一
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2000-089104
公開番号(公開出願番号):特開2001-273617
出願日: 2000年03月28日
公開日(公表日): 2001年10月05日
要約:
【要約】【課題】 ヘッドチップを支持ビームへ取り付ける際のアジマス誤差の発生を可及的に小さくして薄膜磁気ヘッドをフレキシブルディスク装置等へ使用できるようにする。【解決手段】 薄膜状ヘッドチップ1を支持ビームの先端に取り付ける工程に先立って、ヘッドチップ1の、支持ビームの先端に接合される接合パッド14を設ける面とは反対側の面における不要な凸部2の存在を、当該凸部2により平面上に置いた上記ヘッドチップ1が傾斜したことを光干渉縞の挙動より検出することによって知る工程を備え、不要な凸部を有するヘッドチップを取付け工程以前で排除する。
請求項(抜粋):
薄膜状ヘッドチップを支持ビームの先端に取り付ける工程に先立って、前記ヘッドチップの、前記支持ビームの先端に接合される接合パッドを設ける面とは反対側の面における不要な凸部の存在を検出する工程を備えることを特徴とする薄膜磁気ヘッドの製造方法。
IPC (2件):
G11B 5/49 ,  G11B 5/31
FI (2件):
G11B 5/49 C ,  G11B 5/31 M
Fターム (3件):
5D033CA05 ,  5D033DA01 ,  5D033DA22

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