特許

J-GLOBAL ID：200903007100302772

シリカ被膜形成用塗布液

発明者： 山本 昌樹 ,  石田 英明 ,  谷川 景子
出願人/特許権者： 三菱化学株式会社
代理人 (1件)： 長谷川 曉司
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-128412
公開番号（公開出願番号）：特開平10-316934
出願日： 1997年05月19日
公開日（公表日）： 1998年12月02日
要約：

【要約】 (修正有)【課題】 クラックのない厚膜の形成が可能で、各種基材に良好な密着性を有するシリカ被膜を形成する塗布液。【解決手段】 A.下記一般式(I)で示されるハイドロトリアルコキシシランHSi(OR1 )a (OR2 )b (OR3 )c (I)(式中、R1 、R2 、R3 はアルキル基、a、b、cはいずれも0以上3以下の整数で、かつa+b+c=3、)B.下記示性式(II)で示されるアルコキシシランまたはポリアルコキシシランSiOd (OR4 )e (OR5 )f (OR6 )g (OR7 )h (II)(式中、R4 、R5 、R6 、R7 はアルキル基、0≦d≦1.2、0≦e≦4.0、0≦f≦4.0、0≦g≦4.0、0≦h≦4.0であり、且つ、4.0≧e+f+g+h≧1.6、2d+e+f+g+h=4)C.沸点が100°C以上170°C以下の有機溶媒D.沸点が60°C以上100°C未満の有機溶媒E.有機カルボン酸F.スルホン酸触媒を必須成分とする。

請求項（抜粋）：

A.下記一般式(I)で示されるハイドロトリアルコキシシラン【化1】 HSi(OR1 )a (OR2 )b (OR3 )c (I)(式中、R1 、R2 、R3 は炭素数1〜4のアルキル基を表し、a、b、cはいずれも0以上3以下の整数で、かつa+b+c=3である。)B.下記示性式(II)で示されるアルコキシシランまたはポリアルコキシシラン【化2】 SiOd (OR4 )e (OR5 )f (OR6 )g (OR7 )h (II)(式中、R4 、R5 、R6 、R7 は炭素数1〜4のアルキル基を表し、0≦d≦1.2、0≦e≦4.0、0≦f≦4.0、0≦g≦4.0、0≦h≦4.0であり、且つ、4.0≧e+f+g+h≧1.6、2d+e+f+g+h=4である。)C.沸点が100°C以上170°C以下の有機溶媒D.沸点が60°C以上100°C未満の有機溶媒E.有機カルボン酸F.スルホン酸触媒を必須成分とし、A成分を5〜30重量%(対塗布液重量)含有し、且つ、A成分に対するB成分の量がSi換算のモル比で1以下であるシリカ被膜形成用塗布液。

IPC (3件)：

C09D183/05 ,  C09D 7/12 ,  C09D183/06

FI (3件)：

C09D183/05 ,  C09D 7/12 Z ,  C09D183/06