ポジ型感光性組成物

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：小栗昌平 (外4名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-048784
公開番号（公開出願番号）：特開2002-251012
出願日： 2001年02月23日
公開日（公表日）： 2002年09月06日
要約：

【要約】【課題】デフォーカスラチチュードが広く、ハーフトーン位相シフトマスクを用いてパターン形成をした際にサイドローブが発生し難く、且つ経時保存時にパーティクルが発生し難いポジ型感光性組成物を提供する。【解決手段】活性光線または放射線の照射により酸を発生する酸発生剤と、脂環炭化水素構造を有し、酸の作用により分解しアルカリ現像液中での溶解度が増大する樹脂と、塩基性化合物と、フッ素系及び/又はシリコン系界面活性剤とを含有し、且つ酸発生剤が、トリアリールスルホニム塩を少なくとも1種及び芳香環を有さないスルホニウム塩を少なくとも1種含有する混合物であるポジ型感光性組成物。

請求項（抜粋）：

(A)活性光線又は放射線の照射により酸を発生する酸発生剤、(B)単環又は多環の脂環炭化水素構造を有し、酸の作用により分解し、アルカリ現像液中での溶解度が増大する樹脂、(C)塩基性化合物、及び(D)フッ素及び/又はシリコン系界面活性剤を含有し、且つ(A)酸発生剤が、トリアリールスルホニウム塩を少なくとも1種及び芳香環を有さないスルホニウム塩を少なくとも1種含有する混合物であることを特徴とするポジ型感光性組成物。

IPC (8件)：

G03F 7/039 601 , C08K 5/00 , C08K 5/36 , C08L101/00 , G03F 7/004 501 , G03F 7/004 503 , G03F 7/004 504 , H01L 21/027

FI (8件)：

G03F 7/039 601 , C08K 5/00 , C08K 5/36 , C08L101/00 , G03F 7/004 501 , G03F 7/004 503 A , G03F 7/004 504 , H01L 21/30 502 R

Fターム (37件)：

2H025AA02 , 2H025AA03 , 2H025AA11 , 2H025AB16 , 2H025AC04 , 2H025AC08 , 2H025AD03 , 2H025BE00 , 2H025BE07 , 2H025BE10 , 2H025BG00 , 2H025CB08 , 2H025CB41 , 2H025CC03 , 2H025CC04 , 2H025CC20 , 2H025FA17 , 4J002BG041 , 4J002BG051 , 4J002BG071 , 4J002BH021 , 4J002BK001 , 4J002CP032 , 4J002EB116 , 4J002EQ016 , 4J002ER028 , 4J002EU048 , 4J002EU078 , 4J002EU138 , 4J002EU238 , 4J002EV296 , 4J002EV297 , 4J002EW176 , 4J002FD200 , 4J002FD312 , 4J002FD319 , 4J002GP03

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