特許

J-GLOBAL ID：200903007112960619

テトラキスアゾ化合物及びそれを含む記録液

発明者： 山崎 智司 ,  川下 英夫 ,  西田 有児 ,  小島 詠子 ,  荻野 和哉 ,  田村 百合子
出願人/特許権者： 田岡化学工業株式会社 ,  住友化学工業株式会社
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-129235
公開番号（公開出願番号）：特開平8-302220
出願日： 1995年04月28日
公開日（公表日）： 1996年11月19日
要約：

【要約】【目的】 新規なテトラキスアゾ化合物及びその用途、例えば該テトラキスアゾ化合物を含有するインクジエツトプリンター用記録液に関する。【構成】 遊離酸の形で下記一般式 (1)で示されるテトラキスアゾ化合物及びそれを含む記録液。【効果】本発明のテトラキスアゾ化合物は、特にインクジエツト記録に有用であり、記録画像の鮮明性、保存又は使用中における安定性、耐熱性、耐水性及び耐光性等に優れ、特に吐出オリフイスの目詰まり等の問題がない等、インクジエツト用記録液に要求される種々の性能を兼備しており、このように種々の性能を具備しながら、耐水性にも優れる点で本発明の記録液は従来に見られない優れた特徴を有する。

請求項（抜粋）：

遊離酸として下記式(1)【化1】(式中、Q1 及びQ2 はそれぞれ独立に置換基を有していてもよいフェニレン又はナフチレン基を表し、R4 、R5 及びR6 はそれぞれ独立に水素原子、ヒドロキシ基、ヒドロキシエチルスルホニル基、スルホ基、ハロゲン原子又は置換されていてもよいアミノ、アルキル、アルコキシ、フェノキシ、カルバモイル若しくはスルファモイル基を表し、R7 及びR8 はそれぞれ独立に水素原子、ヒドロキシ基、ヒドロキシエチルスルホニル基、ハロゲン原子又は置換されていてもよいアルキル、アルコキシ、フェノキシ、カルバモイル若しくはスルファモイル基を表す。但し、R4 、R5 及びR6 の中、少なくとも1個はヒドロキシ基又は置換されていてもよいアミノ基を表わす。)で示されるテトラキスアゾ化合物。

IPC (2件)：

C09B 35/04 ,  C09D 11/00 PSZ

FI (2件)：

C09B 35/04 ,  C09D 11/00 PSZ