特許
J-GLOBAL ID:200903007123252420
ポジ型レジスト組成物
発明者:
,
出願人/特許権者:
代理人 (5件):
小栗 昌平
, 本多 弘徳
, 市川 利光
, 高松 猛
, 濱田 百合子
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2003-134806
公開番号(公開出願番号):特開2004-341062
出願日: 2003年05月13日
公開日(公表日): 2004年12月02日
要約:
【課題】遠紫外光、とくにArFエキシマレーザー光を使用する上記ミクロフォトファブリケ-ション本来の性能向上のための技術における課題を解決したポジ型レジスト組成物を提供することにあり、より具体的には、サイドローブマージン特性に優れたポジ型レジスト組成物を提供する。【解決手段】イソソルバイド(メタ)アクリレートに由来する繰り返し単位を含有する、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解速度が増大する樹脂、ナフタレン骨格を有する特定の活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物を含有する感光性組成物。【選択図】 なし
請求項(抜粋):
(A)下記一般式(1)で表される繰り返し単位を含有する、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解速度が増大する樹脂、及び
(B)下記一般式(II)で表される活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物を含有することを特徴とする、感光性組成物。
IPC (4件):
G03F7/039
, C08F20/28
, G03F7/004
, H01L21/027
FI (4件):
G03F7/039 601
, C08F20/28
, G03F7/004 503A
, H01L21/30 502R
Fターム (21件):
2H025AA03
, 2H025AB16
, 2H025AC04
, 2H025AC08
, 2H025AD03
, 2H025BE07
, 2H025BE10
, 2H025BG00
, 2H025CB08
, 2H025CB14
, 2H025CB45
, 2H025CC04
, 2H025CC20
, 2H025FA17
, 4J100AL08P
, 4J100BA03P
, 4J100BC52P
, 4J100BC53P
, 4J100CA01
, 4J100CA04
, 4J100JA38
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