特許

J-GLOBAL ID：200903007124046424

電子ビーム式排ガス処理装置

発明者： 岩本 英司 ,  柏木 正之
出願人/特許権者： 日新ハイボルテージ株式会社
代理人 (1件)： 山本 惠二
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-175531
公開番号（公開出願番号）：特開2002-361039
出願日： 2001年06月11日
公開日（公表日）： 2002年12月17日
要約：

【要約】【課題】 従来よりも大きな排ガス処理量にも対応することのできる電子ビーム式排ガス処理装置を提供する。【解決手段】 この電子ビーム式排ガス処理装置は、電子源32から電子ビーム34を発生させてそれを超伝導加速器38によって加速した後に走査器56で走査して出力する超伝導電子ビーム発生装置30を備えている。かつ、この超伝導電子ビーム発生装置30からの電子ビーム34を、反応器10内へ排ガス2の流れに沿う方向に入射させるように構成している。

請求項（抜粋）：

電子ビームを発生させる電子ビーム発生装置と、処理すべき排ガス、アンモニアおよび前記電子ビームが導入され、アンモニアの共存下で排ガスに電子ビームを照射して排ガス中の硫黄酸化物および窒素酸化物の除去を行う反応器とを備える電子ビーム式排ガス処理装置において、前記電子ビーム発生装置として、電子ビームを発生させてそれを超伝導加速器によって加速した後に走査して出力する超伝導電子ビーム発生装置を備えており、かつこの超伝導電子ビーム発生装置からの電子ビームを、前記反応器内へ、当該反応器内における前記排ガスの流れに沿う方向に入射させるように構成していることを特徴とする電子ビーム式排ガス処理装置。

IPC (7件)：

B01D 53/60 ,  B01D 53/34 ZAB ,  B01D 53/74 ,  B01J 19/12 ,  G21K 5/04 ,  G21K 5/04 ZAA ,  G21K 5/10

FI (6件)：

B01J 19/12 C ,  G21K 5/04 S ,  G21K 5/04 ZAA E ,  G21K 5/10 F ,  B01D 53/34 132 A ,  B01D 53/34 ZAB

Fターム (21件)：

4D002AA02 ,  4D002AA12 ,  4D002AC10 ,  4D002BA05 ,  4D002BA09 ,  4D002DA07 ,  4D002FA06 ,  4G075AA03 ,  4G075AA37 ,  4G075BA05 ,  4G075BA06 ,  4G075BD22 ,  4G075CA03 ,  4G075CA14 ,  4G075CA39 ,  4G075CA62 ,  4G075CA80 ,  4G075DA02 ,  4G075EB21 ,  4G075FB02 ,  4G075FC11