特許

J-GLOBAL ID：200903007135427411

特定骨格を有する四級アミン化合物及び有機硫黄化合物を添加剤として含む銅電解液並びにそれにより製造される電解銅箔

発明者： 熊谷 正志 ,  花房 幹夫
出願人/特許権者： 株式会社日鉱マテリアルズ
代理人 (3件)： 加々美 紀雄 ,  酒井 正己 ,  小松 純
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-305650
公開番号（公開出願番号）：特開2004-137588
出願日： 2002年10月21日
公開日（公表日）： 2004年05月13日
要約：

【課題】陰極ドラムを用いた電解銅箔製造における粗面側(光沢面の反対側)の表面粗さの小さいロープロファイル電解銅箔を得ること、特にファインパターン化が可能であり、さらに常温及び高温における伸びと抗張力に優れた電解銅箔を得ることを課題とする。【解決手段】1分子中に1個以上のエポキシ基を有する化合物とアミン化合物とを付加反応させた後、窒素を四級化することにより得られる、下記一般式(1)で表される特定骨格を有する四級アミン化合物と、有機硫黄化合物を添加剤として含む銅電解液。【化1】(一般式(1)中、R1及びR2はヒドロキシアルキル基、エーテル基、芳香族基、芳香族置換アルキル基、不飽和炭化水素基、及びアルキル基からなる一群から選ばれるものであり、R3はベンジル基、アリル基、又はアルキル基を、Aはエポキシ化合物残基を、X1-はCl-、Br-、又はCH3SO4-を、nは1以上の整数を表す。)【選択図】 なし

請求項（抜粋）：

1分子中に1個以上のエポキシ基を有する化合物とアミン化合物とを付加反応させた後、窒素を四級化することにより得られる、下記一般式(1)で表される特定骨格を有する四級アミン化合物と、有機硫黄化合物を添加剤として含む銅電解液。

IPC (2件)：

C25D1/04 ,  C25D3/38

FI (2件)：

C25D1/04 311 ,  C25D3/38

Fターム (4件)：

4K023AA01 ,  4K023AA19 ,  4K023CB07 ,  4K023CB19