特許
J-GLOBAL ID：200903007148903654
5-シクロヘキサデセン-1-オンの製造法および製造装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
鐘尾 宏紀 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-124717
公開番号（公開出願番号）：特開平11-322662
出願日： 1998年05月07日
公開日（公表日）： 1999年11月24日
要約：
【要約】【目的】1,2-ジビニルシクロドデカノールから副反応なく、短時間で効率よく5-シクロヘキサデセン-1-オンを連続製造する方法を提供する。【構成】真空ポンプ8により5mmHg以下の真空にされた、加熱されたフラッシュ装置3に、原料容器1から定量ポンプ2により原料である1,2-ジビニルシクロドデカノールが供給される。フラッシュ装置で気化された1,2-ジビニルシクロドデカノールは、400〜650°Cに加熱され、5mmHg以下の真空とされた反応装置4に供給されて、1,2-ジビニルシクロドデカノールが5-シクロヘキサデセン-1-オンに転換される。反応生成物は反応装置頂部から排出され、冷却されて目的物である5-シクロヘキサデセン-1-オンが回収容器6に回収される。装置を減圧する際、-78〜-100°Cに冷却されたソジュームメチラート/メタノールなどからなる塩酸ガストラップ7を介して真空ポンプ8により減圧を行うことが好ましい。
請求項（抜粋）：
1,2-ジビニルシクロドデカノールを減圧下、気相状態において400〜650°Cで加熱することを特徴とする5-シクロヘキサデセン-1-オンの製造法。
IPC (2件)：
FI (2件)：
C07C 49/587 A
, C07C 45/51
