特許

J-GLOBAL ID：200903007153657262

フラックス洗浄剤

発明者： 根本 潤 ,  佐々木 満 ,  杉田 勝
出願人/特許権者： 日華化学株式会社 ,  長瀬産業株式会社
代理人 (1件)： 内山 充
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-020572
公開番号（公開出願番号）：特開平6-212197
出願日： 1993年01月13日
公開日（公表日）： 1994年08月02日
要約：

【要約】【構成】(A)炭素数が9〜18の特定の脂肪族炭化水素又は脂環式炭化水素を30〜50重量%、特定のグリコールエーテル系化合物を30〜50重量%、別の特定のグリコールエーテル系化合物を1〜10重量%及び非イオン界面活性剤を1〜15重量%を必須成分とするフラックス洗浄剤。【効果】本発明フラックス洗浄剤は、フラックスの洗浄力に優れ、特に基板細部のフラックスの溶解性に優れる上に、水リンス性にも優れた効果を得る利点がある。しかも、非ハロゲン系洗浄剤であるため、オゾン層破壊、地下水汚染等の環境汚染の心配も無く、低臭気、低毒性、高引火性であるため安全な作業環境を提供しうる洗浄剤である。

請求項（抜粋）：

下記成分(A)、(B)、(C)及び(D)を必須成分として含有することを特徴とするフラックス洗浄剤。(A)炭素数が9〜18で、蒸留範囲が150〜300°Cである脂肪族炭化水素又は脂環式炭化水素を30〜50重量%(B)一般式[1]【化1】(式中、R1は炭素数6〜22の直鎖もしくは分岐のアルキル基又はアルケニル基及び炭素数6〜12の直鎖もしくは分岐のアルキル基で置換されたフェニル基であり、R2は水素原子又はメチル基、nは2又は3の整数でR2は同一でも異なってもよい)で表されるグリコールエーテル系化合物を30〜50重量%(C)一般式[2]【化2】(式中、R3及びR5は炭素数1〜5のアルキル基であり、R4は水素原子又はメチル基、mは2又は3の整数でR4は同一でも異なってもよい)で表されるグリコールエーテル系化合物を1〜10重量%(D)非イオン界面活性剤を1〜15重量%

IPC (5件)：

C11D 7/50 ZAB ,  B23K 1/00 ,  C11D 7/60 ,  C11D 7:24 ,  C11D 7:26

引用特許：

審査官引用 (2件)

• 特開平4-292699
  
• 精密部品又は治工具類用洗浄剤組成物
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平4-111560   出願人：花王株式会社