特許
J-GLOBAL ID：200903007161675393
非線形光学積層体の製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
亀井 弘勝 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-231798
公開番号（公開出願番号）：特開平8-095099
出願日： 1994年09月27日
公開日（公表日）： 1996年04月12日
要約：
【要約】【目的】 実用レベルの、十分に強い非線形光学効果を発現しうる非線形光学積層体を製造する製造方法を提供する。【構成】 基板S上に、有機非線形光学材料からなる第1層の薄膜1を形成し、ついでこの薄膜1上に、金属微粒子Mと、有機非線形光学材料の連続相とを交互に形成して、有機非線形光学材料の連続相中に金属微粒子Mが分散した構造の、第2層以降の薄膜2,3,4を積層する。
請求項（抜粋）：
基板上に、有機非線形光学材料からなる、膜厚が3〜100nmの薄膜を形成し、ついでこの薄膜上に、粒径が100nm以下の粒状に成長させた金属微粒子と、有機非線形光学材料の連続相とを交互に形成して、当該有機非線形光学材料の連続相中に、上記金属微粒子が分散した構造の薄膜を複数層、積層することを特徴とする非線形光学積層体の製造方法。
IPC (2件)：
G02F 1/35 503
, G02F 1/35 504
