描画装置

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：井島藤治 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-162753
公開番号（公開出願番号）：特開平11-016803
出願日： 1997年06月19日
公開日（公表日）： 1999年01月22日
要約：

【要約】【課題】複数のビームを材料に照射する場合であっても、全てのビームによる描画を高い精度で行うことができる描画装置を実現する。【解決手段】任意の点Bに照射される電子ビームに対しては、ステージSの回転に伴うX方向の位置ずれΔxと、Y方向の位置ずれΔyの位置ずれを次の式に基づいて求める。Δx=α-L・θ・sinγΔy=β+L・θ・cosγこの求めたΔx、Δyの値を例えば、該当するカラム内の電子ビームの偏向器に供給することにより、B ́点はB点に戻され、正確な位置に電子ビームが照射されることになる。したがって、複数のカラムを用いて複数の電子ビームで同時に被描画材料の描画を行っても、精度の高い描画を行うことができる。

請求項（抜粋）：

移動ステージ上に載置された被描画材料に対して複数の描画ビームを照射して所望のパターンの描画を行うようにした描画装置において、ステージのX方向の移動量を測定するための第1のレーザ干渉計と、ステージのX方向と直交するY方向の移動量を測定するための第2のレーザ干渉計と、ステージの回転角θを求める手段とを備え、第1のレーザ干渉計による測定ビームの軸と第2のレーザ干渉計による測定ビームの軸との交点と、描画ビームの照射点との間の距離をL、該交点と描画ビーム照射点とを結ぶ線とX軸とのなす角度をγとするとき、第1のレーザ干渉計によって測定された移動量と所望移動量との差がα、第2のレーザ干渉計によって測定された移動量と所望移動量との差がβの場合、描画ビームの照射位置をX方向に対して(α-L・θ・sinγ)、Y方向に対して(β+L・θ・cosγ)に応じた値だけ補正するように構成した描画装置。

IPC (4件)：

H01L 21/027 , G03F 7/20 504 , H01J 37/20 , H01L 21/68

FI (4件)：

H01L 21/30 541 L , G03F 7/20 504 , H01J 37/20 Z , H01L 21/68 F

引用特許：

審査官引用 (4件)

特開平2-119120
特開昭63-269527
特開平2-119120

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