特許
J-GLOBAL ID：200903007195489343
感光性樹脂組成物とそれを用いたパターン形成方法
発明者：
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出願人/特許権者：
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代理人 (1件)：
高橋 明夫 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-120199
公開番号（公開出願番号）：特開平9-304930
出願日： 1996年05月15日
公開日（公表日）： 1997年11月28日
要約：
【要約】【課題】現像残りのない高精度で強靱なレリーフパターンを現像により容易に形成することができる感光性樹脂組成物の提供。【解決手段】一般式〔1〕【化5】〔式中A1は炭素数4以上の4価の芳香族,脂肪族炭化水素,環式炭化水素、R1,R2は炭素数20以下の飽和脂肪族カルボン酸基から選ばれ、互いに同じでもよい。〕で表される繰り返し単位を含み、それのポリスチレン換算分子量が1,000〜1,000,000である樹脂成分100重量部と、電磁波の照射により酸を発生する光酸発生剤1〜100重量部を含む感光性樹脂組成物。
請求項（抜粋）：
一般式〔1〕【化1】〔式中A1は炭素数4以上の4価の芳香族,脂肪族炭化水素,環式炭化水素、R1,R2は炭素数20以下の飽和脂肪族カルボン酸基から選ばれ、互いに同じでもよい。〕で表される繰り返し単位を含み、それのポリスチレン換算分子量が1,000〜1,000,000である樹脂成分100重量部と電磁波の照射により酸を発生する光酸発生剤1〜100重量部を含むことを特徴とする感光性樹脂組成物。
IPC (5件)：
G03F 7/039
, G03F 7/004 503
, G03F 7/037 501
, H01L 21/027
, H01L 21/312
G03F 7/039
, G03F 7/004 503
, G03F 7/037 501
, H01L 21/312 D
, H01L 21/30 502 R
