特許

J-GLOBAL ID：200903007201580420

電子ビーム装置

発明者： 田口 孝雄 ,  本荘 一郎
出願人/特許権者： 富士通株式会社
代理人 (1件)： 井桁 貞一
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-182716
公開番号（公開出願番号）：特開平6-028993
出願日： 1992年07月10日
公開日（公表日）： 1994年02月04日
要約：

【要約】【目的】 電子ビーム露光装置に関し,廉価でしかも信頼性の高い電子ビーム露光装置の提供を目的とする。【構成】 電子を放射するマイクロエミッタ1の配置された第1の真空室2と,マイクロエミッタ1から放射された電子が照射される基板3及び基板3で反射される電子及び二次電子を捕獲する検出器4の配置された第2の真空室5と, 第1の真空室2と第2の真空室5を隔てる真空隔壁6とを有し, 第1の真空室2の真空度は第2の真空室5の真空度より高く,真空隔壁6は気密を保ちかつ電子ビームを透過させる薄膜からなる電子ビーム装置により構成する。また,前記真空隔壁6は多層膜からなる電子ビーム装置により構成する。

請求項（抜粋）：

電子を放射するマイクロエミッタ(1) の配置された第1の真空室(2) と, 該マイクロエミッタ(1) から放射された電子が照射される基板(3)及び該基板(3) で反射される電子及び二次電子を捕獲する検出器(4) の配置された第2の真空室(5) と, 該第1の真空室(2) と該第2の真空室(5) を隔てる真空隔壁(6) とを有し,該第1の真空室(2) の真空度は該第2の真空室(5) の真空度より高く,該真空隔壁(6) は気密を保ちかつ電子ビームを透過させる薄膜からなることを特徴とする電子ビーム装置。

IPC (6件)：

H01J 37/18 ,  G03F 7/20 504 ,  G03F 7/20 521 ,  G21K 5/04 ,  H01J 37/305 ,  H01L 21/027