特許
J-GLOBAL ID：200903007221095260
フオトマスク
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
梅田 勝
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-251116
公開番号（公開出願番号）：特開平5-088350
出願日： 1991年09月30日
公開日（公表日）： 1993年04月09日
要約：
【要約】【目的】 垂直、水平のどちらに偏光したレーザー光を用いてもISOの規格を満足するガラスディスクを容易に製作することのできるフォトマスクを提供する。【構成】 透明基板上に、半透光性で第2層をエッチング除去する際にエッチングのストップ膜として作用する第1の膜と、遮光膜として用いる第2の膜とを形成して、多層構造のフォトマスクとする。
請求項（抜粋）：
透明基板と、該透明基板上に形成され、エッチングに対する耐性を有する半透光性の第1の膜と、該第1の膜上に形成され、エッチング可能な遮光性の第2の膜とを有することを特徴とするフォトマスク。
IPC (2件)：
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