特許
J-GLOBAL ID：200903007221446275

光導波路の製造方法

発明者：
石崎 守

石崎 守 について

, 
塚本 健人

塚本 健人 について

, 
佐々木 淳

佐々木 淳 について


出願人/特許権者：
凸版印刷株式会社

凸版印刷株式会社 について


公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-241713
公開番号（公開出願番号）：特開2004-078084
出願日： 2002年08月22日
公開日（公表日）： 2004年03月11日
要約：
【課題】高分子光導波路の製造において、安定したコアパターンを容易に形成することができ、光路変換ミラーをコアパターンの製造工程と連続した工程で行う、すなわち、安価に安定した高分子光導波路を製造する光導波路の製造方法を提供するこ。【解決手段】基板10のパターン状凹部にコアパターン1Aを形成し、別基板20のクラッド材2面に重ね合わせた状態クラッド2Aを形成し、基板を剥離し、クラッド上にコアパターン1Aを転写し、別基板の全面にクラッド3Aを形成する光導波路の製造にて、基板のパターン状凹部のみにコア材を充填する前に、パターン状凹部を有する基板の表面にコア材の親和性を高める表面処理を行うこと。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
型を用いてコアパターンを形成する光導波路の製造方法であって、型の表面にあらかじめコア材またはクラッド材の親和性を高める表面処理を施しておくことを特徴とする光導波路の製造方法。
IPC (1件)：
G02B6/13
FI (1件)：
G02B6/12 M
Fターム (6件)：
2H047PA02 ,  2H047PA21 ,  2H047PA22 ,  2H047PA28 ,  2H047QA05 ,  2H047TA41
引用特許：
出願人引用 (4件)
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審査官引用 (5件)
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