外観検査方法

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：西川惠清 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-016402
公開番号（公開出願番号）：特開2001-209794
出願日： 2000年01月26日
公開日（公表日）： 2001年08月03日
要約：

【要約】【課題】欠陥の有無の判定精度を高めた外観検査方法を提供する。【解決手段】エッジ画像の検査領域内をラスター走査することによってエッジフラグ(画素Eとする)の座標を検出し、この画素Eの微分方向値cが示す方向から時計回り及び反時計回りにそれぞれ90°回転した方向に隣接する画素A〜D,F〜Iの濃度aA〜aD,aF〜aI、例えば読み出した微分方向値cが4であれば画素C,Gの濃度aC,aGを微分絶対値画像メモリ5から読み出す。読み出した画素C,Gの濃度aC,aGをしきい値athと比較し、しきい値athを超えていれば(明るければ)、画素C,Gを欠陥候補点としてカウントする。従来ではクラックのような低コントラストの欠陥部分Kと模様Mとを識別することが困難であったのに対して、本実施形態では両者を判別して欠陥部分Kのみを検出することができ、従来よりも低コントラストの欠陥部分を安定して精度良く検出することができる。

請求項（抜粋）：

被検査物を含む空間領域を撮像して得られた濃淡画像から被検査物の外観上の欠陥を検出する外観検査方法において、前記濃淡画像である原画像を演算処理して微分絶対値画像、微分方向値画像並びにエッジ画像を求め、前記エッジ画像内に検査領域を設定するとともに該検査領域内におけるエッジ画像の輪郭線上の画素に対して当該画素が持つ微分方向値の方向から時計回り及び反時計回りに略90°回転した方向に隣接する画素の原画像における濃度を求め、この濃度が所定の条件を満たす場合に当該画素を欠陥候補点とし、欠陥候補点の個数が規定数を超えた場合に当該画素で形成される輪郭線で囲まれた領域を欠陥と判定することを特徴とする外観検査方法。

IPC (2件)：

G06T 7/00 , G01N 21/88

FI (3件)：

G01N 21/88 J , G06F 15/62 400 , G06F 15/70 330 N

Fターム (36件)：

2G051AB02 , 2G051CA04 , 2G051EA08 , 2G051EA11 , 2G051EB01 , 2G051EC03 , 2G051ED01 , 2G051ED09 , 2G051ED12 , 2G051ED22 , 5B057AA01 , 5B057BA02 , 5B057BA30 , 5B057CD04 , 5B057DA03 , 5B057DA13 , 5B057DC03 , 5B057DC17 , 5B057DC19 , 5B057DC22 , 5L096CA14 , 5L096FA06 , 5L096FA32 , 5L096FA38 , 5L096FA54 , 5L096FA65 , 5L096GA04 , 5L096GA10 , 5L096GA15 , 5L096GA17 , 5L096GA28 , 5L096GA51 , 9A001HH25 , 9A001JJ45 , 9A001KK54 , 9A001LL05

引用特許：

審査官引用 (4件)

特開平4-031751
特開平3-175343
特開昭61-126437

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