特許
J-GLOBAL ID：200903007222350085
疎水性シリカ微粉末及びその製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
小島 隆司 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-365555
公開番号（公開出願番号）：特開2003-171117
出願日： 2001年11月30日
公開日（公表日）： 2003年06月17日
要約：
【要約】【解決手段】 シロキサンを火炎中で酸化燃焼して得た球状の親水性シリカ微粉末にシラノール基をもった疎水化処理剤を予混合したのち、ボールを媒体とするミル内で疎水化処理剤を分散混合するとともに、解裂又は解砕、圧密し、その後アンモニア存在の雰囲気下、100〜300°Cで加熱することにより、疎水化され、ゆるめ嵩密度が150〜800g/l、比表面積が5〜80m2/g、一次粒子径が30nm〜1μm、メタノール滴定法による疎水化度が55〜80であることを特徴とする疎水性シリカ微粉末。【効果】 本発明の疎水化シリカ微粉末は、球状の一次粒子状態で分散し、嵩が小さく、取り扱い易く、高疎水性であり、流動性、液体分散性などに優れた特性を有する。
請求項（抜粋）：
シロキサンを火炎中で酸化燃焼して得た球状の親水性シリカ微粉末にシラノール基をもった疎水化処理剤を予混合した後、ボールを媒体とするミル内で疎水化処理剤を分散混合するとともに、解裂又は解砕、圧密し、その後アンモニア存在の雰囲気下、100〜300°Cで加熱することにより、疎水化され、ゆるめ嵩密度が150〜800g/l、比表面積が5〜80m2/g、一次粒子径が30nm〜1μm、メタノール滴定法による疎水化度が55〜80であることを特徴とする疎水性シリカ微粉末。
Fターム (16件)：
4G072AA25
, 4G072BB05
, 4G072BB07
, 4G072DD08
, 4G072GG03
, 4G072HH14
, 4G072HH30
, 4G072JJ23
, 4G072MM02
, 4G072MM26
, 4G072QQ07
, 4G072TT01
, 4G072TT02
, 4G072TT04
, 4G072TT05
, 4G072UU07
