特許
J-GLOBAL ID:200903007222738725

イオン源およびそのフィラメント交換方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 山本 惠二
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平10-064447
公開番号(公開出願番号):特開平11-250846
出願日: 1998年02月27日
公開日(公表日): 1999年09月17日
要約:
【要約】 (修正有)【課題】 真空に排気されたイオン源や当該イオン源を取り付けた処理室容器の内部を大気圧に戻すことなくフィラメントの交換を可能にする。【解決手段】 フランジ付電流導入端子32とプラズマ生成容器4の開口部52との間に、電流導入端子28及びフィラメント6が通る開口部44、48を有する真空弁40を設け、その側部には真空弁の真空側と大気側とを連通させるバイパス経路と、それを開閉する補助弁とを設け、真空弁の大気側に、フランジ付電流導入端子の頭部を覆うように補助真空容器58を着脱可能に取り付ける。補助真空容器は、フランジ付電流導入端子及びフィラメントを内部に収納可能である。フランジ付電流導入端子に結合してそれをフィラメントと共に抜き差しする操作軸60を補助真空容器に取り付け、補助真空容器の内外を仕切るベント弁62を設ける。
請求項(抜粋):
真空に排気されるプラズマ生成容器内に熱電子放出用のフィラメントを配置したイオン源において、2本の電流導入端子を一つのフランジに取り付けていてこの電流導入端子の先端部に前記フィラメントが取り付けられたフランジ付電流導入端子と、このフランジ付電流導入端子のフランジと前記プラズマ生成容器の開口部との間に設けられていて電流導入端子およびフィラメントが通る開口部を有する真空弁と、この真空弁の真空側と大気側とを連通させるバイパス経路と、このバイパス経路を開閉する補助弁と、前記真空弁の大気側にフランジ付電流導入端子の頭部を覆うように着脱可能に取り付けられるものであってフランジ付電流導入端子およびそれに取り付けられたフィラメントを内部に収納可能な補助真空容器と、この補助真空容器に取り付けられていてフランジ付電流導入端子に結合してフランジ付電流導入端子をフィラメントと共に抜き差しする操作軸と、前記補助真空容器の内外を仕切るベント弁とを備えることを特徴とするイオン源。
IPC (3件):
H01J 37/067 ,  H01J 27/08 ,  H01J 37/08
FI (3件):
H01J 37/067 ,  H01J 27/08 ,  H01J 37/08
引用特許:
出願人引用 (3件) 審査官引用 (3件)

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