特許
J-GLOBAL ID：200903007266626738
透明ガスバリアー性積層フィルムおよびその製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
前田 純博
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-315180
公開番号（公開出願番号）：特開平9-156020
出願日： 1995年12月04日
公開日（公表日）： 1997年06月17日
要約：
【要約】【課題】 ガスバリアー性、耐溶剤性に優れ、耐熱性、耐薬品性、耐水性、可撓性に優れ、しかも密着性のよい光学用透明積層フィルムを提供すること【解決手段】 ポリカーボネート等の透明高分子フィルムの少なくとも片面上に金属酸化物層(A層)を気相成長法で形成した後、下記a〜d〔a/b =5/1-1/2(重量比)〕からなり、pH3-11に調整されたコーテイング剤層をA層の上に塗布後、加熱してb成分により架橋されたPVA硬化膜(B層)を形成する。a.ポリビニルアルコール(PVA)b.テトラメトキシシラン等、一般式R1 n -Si(OR2 )4-n で示されるアルコキシシランの(部分)加水分解物、その(部分)縮合物又はこれらの混合物c.硬化触媒d.溶剤(PVA可溶性溶剤を50重量%以上)
請求項（抜粋）：
透明高分子フィルムの少なくとも片面上に金属酸化物層を有する透明ガスバリアー性積層フィルムにおいて、該金属酸化物層に接してその外側に、下記一般式(1)で示されるアルコキシシランの(部分)加水分解物、その(部分)縮合物若しくはそれらの混合物により架橋されたポリビニルアルコールを含む硬化被膜が積層されていることを特徴とする透明ガスバリアー性積層フィルム。R1 n -Si(OR2 )4-n ・・・・(1)(ここで、R1 は炭素数1〜4のアルキル基;ビニル基;又はメタクリロキシ基、アミノ基、エポキシ基およびメルカプト基からなる群から選ばれる1以上の基を有する有機基であり、R2 は炭素数1〜4のアルキル基であり、nは0〜2の整数である。)
IPC (2件)：
FI (2件)：
引用特許：
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