特許
J-GLOBAL ID:200903007269968044
半導体製造装置のための管理方法および管理システム
発明者:
出願人/特許権者:
,
代理人 (1件):
佐藤 幸男 (外1名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平10-277043
公開番号(公開出願番号):特開2000-114130
出願日: 1998年09月30日
公開日(公表日): 2000年04月21日
要約:
【要約】【課題】 半導体製造装置の異常動作を正確に判定することのできる管理方法を提供すること。【解決手段】 半導体製造装置11の正常動作状態下で少なくとも1つのパラメータについて複数のデータをサンプリングし、サンプリングされたデータ群に基づいてマハラノビス空間Aを作成し、該マハラノビス空間に基づいて、半導体製造装置11の動作状態で得られる前記パラメータについての測定値からマハラノビス距離D2を算出し、当該マハラノビス距離の値が所定の値を超えたとき、半導体製造装置11が異常動作を生じたと判定する。
請求項(抜粋):
半導体製造装置の動作を管理する方法であって、前記半導体製造装置の正常動作状態下で少なくとも1つのパラメータについて複数のデータをサンプリングし、サンプリングされたデータ群に基づいてマハラノビス空間を作成し、該マハラノビス空間に基づいて、前記半導体製造装置の動作状態で得られる前記パラメータについての測定値群からマハラノビス距離を算出し、当該マハラノビス距離の値が所定の値を超えたとき、前記半導体製造装置が異常動作を生じたと判定することを含む、半導体製造装置のための管理方法。
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