特許

J-GLOBAL ID：200903007279695011

共役系高分子の電解不斉重合方法と光学活性共役系高分子

発明者： 後藤 博正 ,  赤木 和夫
出願人/特許権者： 科学技術振興事業団
代理人 (1件)： 西澤 利夫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-362979
公開番号（公開出願番号）：特開2003-306531
出願日： 2002年12月13日
公開日（公表日）： 2003年10月31日
要約：

【要約】 (修正有)【課題】 簡便に共役系高分子の高次構造を制御し、カラム分離等の煩雑な操作を要することなく共役系高分子を不斉重合する方法を提供する。【解決手段】 ネマティック液晶に、少なくともキラルドーパントとモノマーと支持電解質を添加し、電圧を印加する。モノマーとして、イオン化ポテンシャルの低い化合物の3,4エチレンジオキシチオフェン、イソチアナフテン、ピロール、チオフェンが用いられる。【効果】共役系高分子に液晶反応場の光学活性や螺旋構造を反映することができる。また、煩雑な異性体分離操作を経ることなく、光学活性共役系高分子を重合できる。

請求項（抜粋）：

光学活性共役系高分子を重合する方法であって、ネマティック液晶に、少なくともキラルドーパントとモノマーと支持電解質を添加し、電圧を印加することを特徴とする共役系高分子の電解不斉重合方法。

Fターム (6件)：

4J032BA02 ,  4J032BA04 ,  4J032BA13 ,  4J032BB01 ,  4J032BC32 ,  4J032CG01