特許
J-GLOBAL ID：200903007289379223
磁気光学素子の製造方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
倉内 基弘 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-312638
公開番号（公開出願番号）：特開平6-077081
出願日： 1992年10月29日
公開日（公表日）： 1994年03月18日
要約：
【要約】【目的】 回折損失及び吸収損失のいずれも小さい磁気光学素子の製造法を提供する。【構成】 非磁性単結晶基板上に、LPE法により100μm以上の厚さにBi置換稀土類鉄ガーネット膜を作成した磁気光学素子を、800〜1200°Cにおいて酸素含有雰囲気中で熱処理する。
請求項（抜粋）：
非磁性単結晶基板上に、LPE法により100μm以上の厚さにBi置換稀土類鉄ガーネット膜を作成した磁気光学素子から、非磁性単結晶基板を除去した後、800〜1200°Cにおいて酸素含有雰囲気中で熱処理することを特徴とする磁気光学素子の製造方法。
IPC (6件)：
H01F 41/28
, C30B 19/00
, C30B 29/28
, C30B 33/02
, G02F 1/09 501
, H01F 10/24
