特許
J-GLOBAL ID：200903007300700101
溶射ノズル装置および溶射装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (4件)：
植木 久一
, 菅河 忠志
, 二口 治
, 伊藤 浩彰
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2005-368673
公開番号（公開出願番号）：特開2006-212624
出願日： 2005年12月21日
公開日（公表日）： 2006年08月17日
要約：
【課題】溶射材を一定に供給することができ、且つ皮膜または堆積状態をコントロールすることができる溶射ノズル装置および溶射装置を提供する。【解決手段】ノズルの入口側にキャリアガスを導入して超高速のガス流を形成し、そのガス流によって溶射材をアトマイズし放出する溶射ノズル装置において、ノズル2は導入されたキャリアガスを超音速に加速するスロート部2aと、このスロート部2aの下流側に設けられ加速されたガス流を超音速に維持するための拡径流路部2bとを有し、ノズル2の入口側端部に、溶射材としての溶融金属を貯留するための貯留部4が連通路4aを介して接続されていることを特徴とする。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
ノズルの入口側からキャリアガスを導入して超高速のガス流を形成し、そのガス流によって溶射材をアトマイズし放出する溶射ノズル装置において、
上記ノズルの入口側端部に上記溶射材としての溶融金属を貯留する貯留部が連通路を介して接続され、上記ノズルは超音速ガス流を形成するためのスロート部とその下流側に出口方向に向けて形成される拡径流路部とを内設し、この拡径流路部はその流路内で、超音速ガス流によってアトマイズされた金属粒子を凝固または半凝固状態まで冷却し、上記ノズルの出口側から所定方向に放出するように構成されていることを特徴とする溶射ノズル装置。
IPC (3件)：
B05B 7/04
, C23C 4/12
, C23C 24/04
B05B7/04
, C23C4/12
, C23C24/04
4F033QA01
, 4F033QB02Y
, 4F033QB10X
, 4F033QB13Y
, 4F033QB19
, 4F033QD02
, 4F033QE01
, 4F033QE09
, 4K031DA08
, 4K031EA01
, 4K031EA06
, 4K031EA10
, 4K031EA12
, 4K044BA01
, 4K044CA11
, 4K044CA23
, 4K044CA51
, 4K044CA53
