特許
J-GLOBAL ID：200903007308674606
位相シフトマスク及びその製造方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
岡本 啓三
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-045465
公開番号（公開出願番号）：特開平7-253653
出願日： 1994年03月16日
公開日（公表日）： 1995年10月03日
要約：
【要約】【目的】ハーフトーン層を有する光リソグラフィ用の位相シフトマスクに関し、所望の位相差と振幅透過率比とを単層で調整すること。【構成】透光性基板1の上に形成され、前記透光性基板の透光性領域を通過する光との位相差が180度であって、光強度を減衰させる量の不純物が含有されているハーフトーンパターン2aを含む。
請求項（抜粋）：
透光性基板(1)の上に形成され、前記透光性基板の透光性領域を通過する光との位相差が180度であって、光強度を減衰させる量の不純物が含有されているハーフトーンパターン(2a)を有することを特徴とする位相シフトマスク。
IPC (2件)：
FI (2件)：
H01L 21/30 502 P
, H01L 21/30 528
