特許

J-GLOBAL ID：200903007324553606

フェニル酢酸誘導体、ベンゾニトリル誘導体、およびその製造方法

発明者： 池野 育代
出願人/特許権者： 株式会社日本触媒
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-136708
公開番号（公開出願番号）：特開2000-327629
出願日： 1999年05月18日
公開日（公表日）： 2000年11月28日
要約：

【要約】【課題】 一般式(1):【化1】(X1〜X4:水素原子、ハロゲン原子、アルキル基またはアルコキシル基)で表されるフェニル酢酸誘導体、一般式(2):【化2】(X1〜X4:上記と同一、R1〜R2:シアノ基またはCOOR3(R3:アルキル基))で表されるベンゾニトリル誘導体(A)、一般式(3):【化3】(X1〜X4:上記と同一)で表されるベンゾニトリル誘導体(B)、およびその製造方法を提供する。【解決手段】 一般式(4):【化4】と一般式(5):【化5】で表される化合物とを塩基性化合物の存在下に反応させてベンゾニトリル誘導体(A)を製造する。このベンゾニトリル誘導体(A)を酸触媒の存在下に反応させてフェニル酢酸誘導体を製造する。また、このベンゾニトリル誘導体(A)を酸触媒の存在下に反応させて一般式(3)のベンゾニトリル誘導体(B)を製造し、さらにこのベンゾニトリル誘導体(B)を酸触媒の存在下に反応させてフェニル酢酸誘導体を製造する。

請求項（抜粋）：

一般式(1):【化1】(式中、X1〜X4はそれぞれ独立して水素原子、ハロゲン原子、アルキル基またはアルコキシル基である)で表されるフェニル酢酸誘導体。

IPC (8件)：

C07C 63/72 ,  B01J 27/06 ,  B01J 31/04 ,  C07C253/30 ,  C07C255/51 ,  C07C255/54 ,  C07C255/57 ,  C07B 61/00 300

FI (8件)：

C07C 63/72 ,  B01J 27/06 X ,  B01J 31/04 X ,  C07C253/30 ,  C07C255/51 ,  C07C255/54 ,  C07C255/57 ,  C07B 61/00 300

Fターム (21件)：

4H006AA01 ,  4H006AA02 ,  4H006AB84 ,  4H006AC24 ,  4H006AC46 ,  4H006BA02 ,  4H006BA06 ,  4H006BA66 ,  4H006BA69 ,  4H006BD70 ,  4H006BJ50 ,  4H006BM30 ,  4H006BM71 ,  4H006BS10 ,  4H006BS30 ,  4H006QN30 ,  4H039CA11 ,  4H039CA65 ,  4H039CD20 ,  4H039CD40 ,  4H039CD50