特許
J-GLOBAL ID：200903007326125679
複写偽造防止パターン及びその照合方法
発明者：
出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-217696
公開番号（公開出願番号）：特開平7-068979
出願日： 1993年09月01日
公開日（公表日）： 1995年03月14日
要約：
【要約】【目的】本発明は異なる波長領域に吸収を有する複数のパターンを組み合わせ、またダミーパターンを組み込むことにより、不必要な露出を防止するとともに、改竄・変造・偽造が困難な複写偽造防止パターンを提供する。【構成】複写偽造防止パターンを、画像パターンを分割するとともに、その一方を赤外領域に吸収を有し可視領域に吸収の無い或いは少ないインキにより、他方を赤外領域と可視領域に吸収を有するインキにより構成し、また赤外領域と可視領域に吸収を有するインキと可視領域において同じ吸収を有するが赤外領域に吸収の無いインキと、赤外領域に吸収を有し可視領域に吸収の少ないインキの少なくとも一方からなるダミーパターンを構成することで、可視領域では分割された画像パターンとともにダミーパターンが現れ、赤外領域では画像パターンが現れる。
請求項（抜粋）：
文字またはマーク、デザインなどからなる画像パターンを分割するとともに、その一方を赤外領域に吸収を有し可視領域に吸収の無い或いは少ないインキにより、他方を赤外領域と可視領域に吸収を有するインキにより構成し、かつ前記画像パターンの近傍および/または前記画像パターンに重畳して前記赤外領域と可視領域に吸収を有するインキと可視領域において同じ吸収を有するが赤外領域に吸収の無いインキと、赤外領域に吸収を有し可視領域に吸収の少ないインキの少なくとも一方からなるダミーパターンを設けてなることを特徴とする複写偽造防止パターン。
IPC (3件)：
B42D 15/10 531
, C09D 11/00 PTE
, G03G 21/00
