特許

J-GLOBAL ID：200903007362249775

保護膜材料

発明者： 東郷 真紀子 ,  藤井 修 ,  遠藤 昌之 ,  横山 泰明
出願人/特許権者： 日本合成ゴム株式会社
代理人 (1件)： 岩見谷 周志
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-269110
公開番号（公開出願番号）：特開平5-078453
出願日： 1991年09月20日
公開日（公表日）： 1993年03月30日
要約：

【要約】【構成】 本発明の保護膜材料は、(A) 下記一般式、【化1】〔式中、Rは水素原子または低級アルキル基、mは1〜8の整数である〕で表される構成単位を少なくとも20重量%有するアクリル系重合体をベース成分とし、これに、(B) 多価カルボン酸またはその無水物、(C) 熱によりラジカル反応が可能なアクリル化合物および(D) アルコキシシラノ基とエポキシ基とを有する化合物を配合して成るものである。【効果】 光デバイス用保護膜に要求される耐ITOスパッタ性、耐酸性、耐アルカリ性、耐溶剤性、耐熱性等の特性に優れているとともに、基板表面の凹凸を小さくする平坦化作用を有する保護膜を形成することができ、表示むらのないSTNパネルを作製することができる。

請求項（抜粋）：

(A) 下記一般式(1)【化1】〔式中、Rは、水素原子または炭素原子数1〜5のアルキル基を示し、mは、1〜8の整数を示す〕で表される構成単位を少なくとも20重量%含有している重合体、(B) 多価カルボン酸無水物および多価カルボン酸から選択された少なくとも1種の化合物、(C) アクリル化合物、および、(D) アルコキシシラノ基とエポキシ基とを有する化合物、を含有して成る保護膜材料。

IPC (6件)：

C08G 59/40 NKF ,  C08G 59/20 NHW ,  C08G 59/42 NHY ,  C08K 5/54 NLC ,  C08L 63/00 ,  C09D163/00 PJK