特許
J-GLOBAL ID：200903007379655351
回転電極を用いた薄膜形成装置
発明者：
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出願人/特許権者：
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代理人 (1件)：
目次 誠 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-313069
公開番号（公開出願番号）：特開平11-140654
出願日： 1997年11月14日
公開日（公表日）： 1999年05月25日
要約：
【要約】【課題】 回転電極2への電力供給を安定化し、安定したプラズマを発生させる。また反応容器1内での遊離した微粒子の発生を抑制し、基板7以外への薄膜付着等を低減する。【解決手段】 回転電極2に対し非接触となるように設けられる電力伝達部材4を介して高周波電源5からの高周波電力を回転電極2に印加する。また、回転電極2の電極表面2bに沿って該回転電極2の一部を覆うようにカバー部材4を設け、該カバー部材4によってプラズマ発生領域を密閉する。
請求項（抜粋）：
回転することにより基板表面の近傍を移動しながら通過する電極表面を有する回転電極に高周波電力または直流電力を印加することによりプラズマを発生させて前記基板上に薄膜を形成する薄膜形成装置において、前記回転電極に対し非接触となるように設けられる電力伝達部材を介して前記電力が前記回転電極に印加されることを特徴とする薄膜形成装置。
IPC (2件)：
FI (2件)：
引用特許：
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