特許
J-GLOBAL ID：200903007384602630
二重シール弁における下側弁体洗浄装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
杉山 泰三
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-070016
公開番号（公開出願番号）：特開平7-253169
出願日： 1994年03月14日
公開日（公表日）： 1995年10月03日
要約：
【要約】【目的】 再度の開弁時の汚染原因を解消する工夫および洗浄液を節約するための工夫を施した新規の二重シール弁における下側弁体洗浄装置を提供することを目的とするものである。【構成】 バランスピストンの外周面において上・下両側弁体の開き・閉じ状態、上側弁体のみ開き状態および下側弁体のみ開き状態としての洗浄によって洗浄されない個所を囲繞する位置関係として下側管部の内周面にバランスピストンのストロークの半分の幅とした下側洗浄液流路を形成し、この下側洗浄液流路の外壁に下側洗浄液供給口を設け、また下側管部の壁を絞ってバランスピストンの外周面に近接させることによって下側洗浄液流路の下縁に排出用隙間を形成したものである。
請求項（抜粋）：
流体入口導管および流体出口導管を有し且つこれ等入口導管、出口導管の間に上側弁座および下側弁座を上下配置で有する弁筐と、弁筐における弁座の上方個所に上方通孔を開設して当該上方通孔の切縁上面に設けた上側管部と、弁筐における弁座の下方個所に下方通孔を開設して当該下方通孔の切縁上面に設けた下側管部と、上側管部を介して上下弁座の中心部まで下端を延長した第1ピストンロッドと、第1ピストンロッドの延長部に上下動可能として被着した管状の第2ピストンロッドと、第2ピストンロッドの下端に設けた上側弁座に着座する上側弁体と、上側弁体の下面において上側弁座の内周に近い個所に開設した洗浄液噴出口と、洗浄液噴出口に対して上側管部の側面から洗浄液を供給する流路と、第1ピストンロッドの下端に出口導管内を経て下側管部内に達する長さとして連設した下向きの洗浄液排出管と、洗浄液排出管の上端部に設けた、上記下側弁座に着座する下側弁体と、洗浄液排出管の下端部に設けた、下側管部に沿って上下動するバランスピストンとを備えた、洗浄を上・下両側弁体の開き・閉じ状態、上側弁体のみ開き状態および下側弁体のみ開き状態としてなす形式の二重シール弁に関し、バランスピストンの外周面において上・下両側弁体の開き状態、上側弁体のみ開き状態および下側弁体のみ開き状態としての洗浄によって洗浄されない個所を囲繞する位置関係として下側管部の内周面にバランスピストンのストロークの半分の幅とした下側洗浄液流路を形成し、この下側洗浄液流路の外壁に下側洗浄液供給口を設け、また下側管部の壁を絞ってバランスピストンの外周面に近接させることによって下側洗浄液流路の下縁に排出用隙間を形成したことを特徴とする二重シール弁における下側弁体洗浄装置。
IPC (3件)：
F16K 1/44
, B08B 9/06
, F16K 51/00
