特許

J-GLOBAL ID：200903007414245889

露光装置および該露光装置を用いてマイクロデバイスを製造する方法

発明者： 小松田 秀基
出願人/特許権者： 株式会社ニコン
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-050137
公開番号（公開出願番号）：特開2001-244168
出願日： 2000年02月25日
公開日（公表日）： 2001年09月07日
要約：

【要約】【目的】厳しい照明条件を十分に満たし得る高性能な露光装置、及びより一層微細なパターンの露光によってより一層優れたマイクロデバイスの製造方法の提供にある。【構成】マスクに形成されたパターンを感光性基板に投影する投影系;マスク上の位置に照明領域を形成する照明光学系;投影系に対してマスク及び感光性基板を所定の走査露光方向に沿って相対的に移動させる移動手段と;走査露光方向に沿った照明特性を調整する第1照明調整手段;走査露光方向と交差する方向での照明特性を調整する第2照明調整手段;テレセントリシティに傾斜成分を付与する第1テレセントリシティ調整手段;光軸からの位置に応じたテレセントリシティを調整する第2テレセントリシティ調整手段;を含む構成とした。

請求項（抜粋）：

マスクに形成されたパターンを感光性基板に投影するために、光軸に対して偏芯した露光視野を含む投影系と;露光のための光束を前記露光視野へ導くために、前記投影系の光軸に対して偏芯した前記マスク上の位置に照明領域を形成する照明光学系と;前記投影系に対して前記マスク及び前記感光性基板を所定の走査露光方向に沿って相対的に移動させる移動手段と;前記マスクに形成される照明領域又は前記感光性基板に形成される前記投影系の露光視野における前記走査露光方向に沿った照明特性を調整する第1照明調整手段と;前記マスクに形成される照明領域又は前記感光性基板に形成される前記投影系の露光視野における前記走査露光方向と交差する方向での照明特性を調整するために第2照明調整手段と;前記マスクに形成される照明領域又は前記感光性基板に形成される前記投影系の露光視野におけるテレセントリシティに傾斜成分を付与する第1テレセントリシティ調整手段と;前記マスクに形成される照明領域又は前記感光性基板に形成される前記投影系の露光視野における前記光軸からの位置に応じたテレセントリシティを調整する第2テレセントリシティ調整手段と;を含むことを特徴とする請求項1乃至請求項4のいずれかに記載の露光装置。

IPC (4件)：

H01L 21/027 ,  G02B 5/10 ,  G03F 7/20 503 ,  G03F 7/23

FI (6件)：

G02B 5/10 ,  G03F 7/20 503 ,  G03F 7/23 H ,  H01L 21/30 531 A ,  H01L 21/30 516 Z ,  H01L 21/30 517

Fターム (30件)：

2H042DB08 ,  2H042DD04 ,  2H042DD09 ,  2H042DE04 ,  2H097AA02 ,  2H097AA03 ,  2H097AB09 ,  2H097BB10 ,  2H097CA06 ,  2H097CA15 ,  2H097EA01 ,  2H097GB01 ,  2H097LA10 ,  2H097LA12 ,  5F046BA05 ,  5F046CA03 ,  5F046CA04 ,  5F046CB03 ,  5F046CB05 ,  5F046CB13 ,  5F046CB23 ,  5F046DA01 ,  5F046DB01 ,  5F046DC12 ,  5F046GA03 ,  5F046GA06 ,  5F046GA14 ,  5F046GC03 ,  5F046GC04 ,  5F046GD10