特許

J-GLOBAL ID：200903007432399508

ネガ型感光性樹脂組成物、パターンの製造法及び電子部品

発明者： 土川 信次 ,  鍛治 誠 ,  上田 充 ,  武志 一正 ,  奥山 健一
出願人/特許権者： 日立化成工業株式会社
代理人 (1件)： 若林 邦彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-201520
公開番号（公開出願番号）：特開2001-033964
出願日： 1999年07月15日
公開日（公表日）： 2001年02月09日
要約：

【要約】【課題】 感度や解像度および耐熱性に優れるネガ型感光性樹脂組成物、前記組成物の使用により、感度、解像度および耐熱性に優れ、良好な形状のパターンが得られるパターンの製造法並びに良好な形状と特性のパターンを有することにより、信頼性の高い電子部品を提供する。【解決手段】 一般式(1)【化1】(式中R1は、ハロゲン原子又は炭素数1〜9のアルキル基を示し、複数ある場合は各々同一でも異なっていてもよく、xは0〜3の整数である)で表される繰り返し単位を有するポリフェニレンオキシド(A)、光により酸を発生する化合物(B)、酸の作用により上記一般式(1)で表される繰り返し単位を有するポリフェニレンオキシドを架橋しうる化合物(C)を含有してなるネガ型感光性樹脂組成物、この感光性重合体組成物を支持基板上に塗布し乾燥する工程、露光する工程、アルカリ水溶液を用いて現像する工程を含むパターンの製造法並びにこの製造法により得られるパターンを表面保護膜又は層間絶縁膜として有して成る電子部品。

請求項（抜粋）：

一般式(1)【化1】(式中R1は、ハロゲン原子又は炭素数1〜9のアルキル基を示し、複数ある場合は各々同一でも異なっていてもよく、xは0〜3の整数である)で表される繰り返し単位を有するポリフェニレンオキシド(A)、光により酸を発生する化合物(B)、酸の作用により上記一般式(1)で表される繰り返し単位を有するポリフェニレンオキシドを架橋しうる化合物(C)を含有してなるネガ型感光性樹脂組成物。

IPC (3件)：

G03F 7/038 601 ,  G03F 7/004 501 ,  H01L 21/027

FI (3件)：

G03F 7/038 601 ,  G03F 7/004 501 ,  H01L 21/30 502 R

Fターム (18件)：

2H025AA01 ,  2H025AA02 ,  2H025AA03 ,  2H025AA10 ,  2H025AA13 ,  2H025AA20 ,  2H025AB15 ,  2H025AB16 ,  2H025AB17 ,  2H025AC01 ,  2H025AD01 ,  2H025BE00 ,  2H025CB21 ,  2H025CB45 ,  2H025CC17 ,  2H025EA04 ,  2H025EA10 ,  2H025FA17