特許

J-GLOBAL ID：200903007432617521

高純度球状シリカおよびその製造方法

発明者： 溶原 康裕 ,  折居 晃一
出願人/特許権者： 日東化学工業株式会社
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-144124
公開番号（公開出願番号）：特開平7-069617
出願日： 1994年06月03日
公開日（公表日）： 1995年03月14日
要約：

【要約】【構成】アルカリ珪酸塩水溶液および鉱酸水溶液のそれぞれを分散相として細粒状に分散させた各エマルジョンを混合して球状シリカゲルを生成させ、得られた球状シリカゲルを鉱酸で処理して得た球状含水シリカを脱水後、加熱処理して、放射性物質の含有率が1ppb以下、シリカを煮沸浸出した抽出水の電気伝導度が10μS/cm以下、真球度が 0.9以上である粒子の含有率が90%以上であり、粒子の粒径に対応する比表面積の理論値に対してBET法による比表面積の測定値の倍率が3以下である高純度球状シリカを得る。【効果】アルカリ珪酸塩水溶液を原料として、放射性元素を含む不純物含有率が極めて低い高純度で、且つ、表面平滑性に優れて真球度が高い、特に高密度集積回路電子部品の封止用樹脂組成物の充填材として好適な、高純度球状シリカ粒子を得ることができる。

請求項（抜粋）：

アルカリ珪酸塩水溶液から得られた高純度球状シリカであって、放射性物質の含有率が1ppb以下、シリカを煮沸浸出した抽出水の電気伝導度が10μS/cm以下、真球度が 0.9〜1.0 である粒子の含有率が90%以上であり、粒子の粒径に対応する比表面積の理論値に対してBET法による比表面積の測定値の倍率が3以下である高純度球状シリカ。

IPC (2件)：

C01B 33/187 ,  H01L 23/10

引用特許：

審査官引用 (3件)

• 特開平1-230422
  
• 特開平2-059416
  
• 特開平2-014807