特許
J-GLOBAL ID：200903007434790441
残留揮発性成分の低減されたポリフェニレンエーテル樹脂粉体およびその製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-096237
公開番号（公開出願番号）：特開平5-295121
出願日： 1992年04月16日
公開日（公表日）： 1993年11月09日
要約：
【要約】【目的】 化学式C8 H10で表される芳香族炭化水素の残存溶剤量の少ないポリフェニレンエーテル樹脂粉体とその製造方法を提供する。【構成】 ポリフェニレンエーテル樹脂重合体に対して親和性の高い溶剤であるp-キシレンとm-キシレンが合計して70wt%以上で、且つm-キシレン/p-キシレン重量比が0.5以下である組成の有機溶剤を使用することにより、ポリフェニレンエーテル樹脂重合体の洗浄、乾燥工程で該有機溶剤の残存量が少ないポリフェニレンエーテル樹脂粉体を得る。
請求項（抜粋）：
ポリフェニレンエーテル樹脂粉体中に含まれる化学式C8 H10で表される芳香族炭化水素の組成が、p-キシレンとm-キシレンを合計して60wt%以上であり、かつm-キシレン/p-キシレン重量比が、0.5以下であることを特徴とするポリフェニレンエーテル樹脂粉体。
IPC (3件)：
C08J 3/12 CEZ
, C08G 65/46 NQT
, C08L 55:00
