特許
J-GLOBAL ID:200903007456624839
回折格子パターンおよびその作製方法
発明者:
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出願人/特許権者:
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平6-154567
公開番号(公開出願番号):特開平8-021907
出願日: 1994年07月06日
公開日(公表日): 1996年01月23日
要約:
【要約】【目的】パターンの輪郭がドット形状に依存せずに、作製しようとする全体的なパターンの輪郭を忠実に実現できるような2光束干渉法による回折格子パターンおよびその作製方法の提供。【構成】感光材料上の露光領域を、作製するパターンの輪郭に応じて所望形状の開口が設けられたマスクを用いて規定することで、ドットの輪郭が、作製するパターン(マスクの開口形状)に応じて任意な形状である回折格子パターンを作製する。
請求項(抜粋):
回折格子からなる複数の微小なドットが、基板表面に所望に配置されてなる回折格子パターンにおいて、前記ドットの輪郭が、作製するパターンに応じて任意な形状であることを特徴とする回折格子パターン。
IPC (3件):
G02B 5/18
, G02B 27/42
, G03H 1/04
引用特許: