特許
J-GLOBAL ID:200903007457110286

新規なポリマーを含有する放射線感光性組成物

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 佐伯 憲生
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平10-190924
公開番号(公開出願番号):特開平11-149161
出願日: 1998年06月01日
公開日(公表日): 1999年06月02日
要約:
【要約】 (修正有)【解決手段】ポリマーの新規な混合物を含有するフォトレジスト組成物。この混合物は、ポリマーの少なくとも一方が、酸環境に対して不活性である基によって置換されている、ノボラック樹脂及びポリビニルフェノール樹脂からなる。【効果】フォトレジスト配合物中に使用されるとき、このフォトレジストは、アイ-ライン照射に露光されたとき改良された現像能力を示す。
請求項(抜粋):
フォト酸発生剤;架橋剤及び溶解抑制剤からなる群から選択されるものた員並びにポリビニルフェノール樹脂及びノボラック樹脂からなる水性アルカリ可溶性フェノール樹脂混合物からなり、該樹脂の少なくとも一方が、酸性下で不活性である基で置換されたペンダントヒドロキシル基を少なくとも0.1%有し、該混合物のポリビニルフェノール樹脂のノボラック樹脂に対する重量比が1対10から10対1であるフォトレジスト組成物。
IPC (5件):
G03F 7/038 601 ,  C08L 25/18 ,  C08L 61/06 ,  G03F 7/004 501 ,  G03F 7/039 601
FI (5件):
G03F 7/038 601 ,  C08L 25/18 ,  C08L 61/06 ,  G03F 7/004 501 ,  G03F 7/039 601

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