特許
J-GLOBAL ID：200903007469823164
膜厚の測定方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
山川 政樹
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-088412
公開番号（公開出願番号）：特開平5-256636
出願日： 1992年03月13日
公開日（公表日）： 1993年10月05日
要約：
【要約】【目的】 表面に微細な凹凸があるような薄膜でも小角エックス線回折法でその平均膜厚が求められるようにする。【構成】 表面に微細な凹凸のある被測定薄膜2の上にスパッタ法などにより平坦化層3を形成し、この状態の上にエックス線領域の1次波8を照射する。これにより起きる界面5と界面7の回折の干渉により膜厚を測定する。
請求項（抜粋）：
基板上に形成された被測定薄膜を測定する方法において、前記被測定薄膜上に表面が平坦になるように平坦化層を形成し、前記被測定薄膜と平坦化層の合計膜厚を小角エックス線回折法により求め、前記合計膜厚から前記平坦化層の膜厚を減じて前記被測定薄膜の膜厚を求めることを特徴とする膜厚の測定方法。
引用特許：
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