特許
J-GLOBAL ID:200903007480303156

硬化物の製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2000-042126
公開番号(公開出願番号):特開2001-079481
出願日: 2000年02月21日
公開日(公表日): 2001年03月27日
要約:
【要約】【課題】電子線硬化の欠点である窒素置換を必要とせず、生産性に優れた硬化物の製造方法の提供。【解決手段】基材上に、ラジカル反応により硬化する組成物から構成される層(1)と、該層(1)の上に酸素による阻害を受けることなく硬化する組成物、好ましくはカチオン反応により硬化する組成物から構成される層(2)とを設け、次いで電子線を照射することを特徴とする硬化物の製造方法。
請求項(抜粋):
基材上に、ラジカル反応により硬化する組成物から構成される層(1)と、該層(1)の上に酸素による阻害を受けることなく硬化する組成物から構成される層(2)とを設け、次いで電子線を照射することを特徴とする硬化物の製造方法。
IPC (3件):
B05D 3/06 101 ,  C08J 7/00 302 ,  C08J 7/04
FI (3件):
B05D 3/06 101 Z ,  C08J 7/00 302 ,  C08J 7/04 K

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